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中芯CEO趙海軍:專注“大生產”技術 EUV不容或缺
2017-9-26  DIGITIMES

日前中芯國際CEO趙海軍指出,EUV將在7nm形成主流,28納米工藝如果演進到7納米,性能可以增長68%;EUV最大的優點是可以20多天出廠,而用其他工藝要80多天,做大生產技術必須要用到EUV。

在2017年,EUV光刻機年產量全球只有12台,幾乎每一個月只生產出一台。就其高難度的生產技術與複雜的核心零元件使得每台EUV光刻機的單價超過了1億歐元。不過,雖然售價高昂,依舊供不應求。

晶圓代工廠中,包括台積電、三星、格羅方德等企業紛紛宣佈將在2018年會導入7納米先進制程,EUV極紫外線光刻機在其中所扮演的關鍵角色越來越重要。而目前作為光刻機的龍頭的阿斯麥(ASML)佔據著高達80%的市場,EUV光刻機能否交給國內客戶的手上,將牽動國內晶圓廠14納米能否往下走的進程。

據瞭解,ASML目前EUV光刻機累積的訂單已經達到27台,是目前年產量的兩倍多。也就是說,ASML在2018之前的產能已經全部被晶圓廠客戶訂光。

日前中芯國際CEO趙海軍出席2017年北京微電子國際研討會時特別著重演講了大生產技術。從他的觀點,對國內半導體製造技術的發展趨勢,以及積體電路的應用領域和中國在半導體製造方面需要扮演的角色進行瞭解讀。

趙海軍認為,摩爾定律現在還在繼續發展,EUV將在7nm形成主流,EUV變化非常大,很多工藝技術環節都要重新開始,但是從28納米工藝發展至7納米,晶片的性能將可以增長68%,如此巨大的增長Foundry一定要做。

他從 “大生產”的觀點分析,Foundry一定要在接到訂單60日之內從把矽片交出去,後續還要後段封裝測試,大概需要一個月,這樣正好一個季度;而EUV最大的優點是可以20多天出廠,若採用用其他工藝要80多天,做大生產必須要用到EUV。

中芯國際一直重視研發開支,根據中芯國際2017年年中財報內容,中芯計畫今年資本開支為23億美元,主要用於28納米在北京及深圳的擴產以及14納米FinFET技術的研發費用,上半年則已經用了15.087億美元。

半導體行業資深專家莫大康則觀察道,中芯國際目前技術研發進步依靠雙輪驅動:投資與技術。投資相對來說是容易,困難的是產出與回報,尤其技術方面要靠28納米量產來驅動,但尚很慢。

目前中芯國際的競爭對手們都已經將28納米帶至國內 “打到家門口”包括三星、廈門聯芯、台積電南京、GlobalFoundries,因此中芯處在關口,是項實力的考驗。

 

 
     



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